Our Service
陶氏（DOW）抛光产品
GMT经营陶氏化学（DOW）的抛光垫/抛光液/无蜡垫（template)产品，主要应用于晶圆，硅片，CiN氮化硅，GaN氮化镓，InP磷化铟，LT/LN 钽酸锂 铌酸锂，GaAs 砷化镓，半导体，陶瓷，蓝玻璃，光学，蓝宝石，铝合金等，行业的研磨抛光加工。
以下为GMT经营抛光垫/抛光液的的主要型号，具体尺寸等规格欢迎洽询：
Suba600
Suba800
IC1000/IC1010
Politex/H1001
Our Service
陶氏化学抛光垫
| 型号 | 厚度 | 压缩比 | 硬度 | 沟槽 |
| Suba400 | 1.27 | 8.6 | 60 | 可客制 |
| Suba400H | 1.28 | 6.9 | 67 | 可客制 |
| Suba600 | 1.27 | 2.9 | 81 | 可客制 |
| Suba800 | 1.27 | 2.7 | 84 | 可客制 |
| Suba840 | 1.27 | 2.1 | 86 | 可客制 |
| Suba800 M2 | 1.26 | 1.9 | 88 | 可客制 |
| Suba800 M4 | 1.26 | 2.3 | 87 | 可客制 |
| Suba800 T2 | 1.26 | 2 | 90 | 可客制 |
| Suba500 | - | - | - | 可客制 |
| Suba IV | 1.29 | 13.71 | 41.4 | 可客制 |
| Suba X | - | - | - | 可客制 |
| Politex Reg | - | - | - | 可客制 |
| Politex Hi | - | - | - | 可客制 |
| Politex Kiss | - | - | - | 可客制 |
| H1000系列 | - | - | - | 压 花 |
| H1002 | 1.35 | 4 | 压 花 | |
| IC1000系列 | - | - | - | - |
| MH 系列 | - | - | - | 可客制 |
| SPM3100 | - | - | - | - |
Politex/H1001
拋光液
Our Service
陶氏化学抛光液
| NP8020 | NP8040 | NP8050 | NP6501 | NP6502 |
| NP6504 | NP6610 | Klebosol 系列 | KU302A | KU302B |
Our Service
氧化铝粉
规格:
＃240、＃280、 ＃320、＃400、＃500、＃600、＃700、＃800、＃1000、＃1200、＃1500、＃2000、＃3000、＃4000、＃6000
优点:
优异的颗粒形状和硬度的氧化铝基精抛材料，在严格的晶质管理下制造
应用领域:
玻璃、陶瓷、光掩模、晶体、GaN、GaAs、GaP、InP、SiC表面研磨加工，可发挥极其卓越的加工性能，也可以放心地用于附加价值高的加工物。
Our Service
氧化铈抛光液
适用于超精密光学平板玻璃及2.5D、3D手机保护屏玻璃的抛光。
特性
严格的粒径控制、增强水合抛光、统筹抛光液流变性能、高抛光效率、精密的抛光表面(粗糙度低，划伤低)、优异的后续清洗性能
